主要刻蚀TiN、GaN等金属材料。

1、最大支持8英寸晶圆；

2、适用于对TiN、GaN等金属材料的低损伤干法刻蚀；

3、气路：Ar、O₂、He、N₂、SF₆、CF₄、Cl₂、BCl₃；

4、刻蚀均匀性≤5%。