用于金属及其氧化物（如AI、Ti、Cr、Ge）等材料的刻蚀。

1、最大支持8英寸晶圆；
2、用于金属及其氧化物（如AI、Ti、Cr、Ge）等材料的选择性干法刻蚀；

3、气路：Ar、O₂、He、N₂、SF₆、CF₄、Cl₂、BCl₃；

4、刻蚀均匀性≤5%。