前道-槽式有机工艺台

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中文名：前道-槽式有机工艺台
英文名：
所属机组：有机湿法台区
仪器型号：
房间：有机湿法台区
负责人：冯建方

强力剥离和去除晶圆、光刻掩膜版上的光刻胶和有机残留物。

1、最大支持8英寸晶圆

2、可用试剂类型：乙醇、丙酮、异丙醇、N-甲基吡咯烷酮（NMP）等有机试剂。