强力剥离和去除晶圆、光刻掩膜版上的光刻胶和有机残留物， 并支持用户自定义有机实验操作。

1、最大支持8英寸晶圆

2、可用试剂类型：乙醇、丙酮、异丙醇、N-甲基吡咯烷酮（NMP）等有机试剂。