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中文名:椭偏仪
英文名:E-beam Lithography
所属机组:量测区
仪器型号:
房间:量测区
负责人:袁威

无损非接触测量材料光学特性(折射率、消光系数)、薄膜厚度;

1、样品尺寸:大小<200 mm;

2、光谱范围:190~1650 nm;

3、测量角度:45-90°;

4、束斑直径:微光斑不大于200 μm。

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