MPCVD

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中文名：热型原子层沉积
英文名：
所属机组：化学镀膜区
仪器型号：
房间：化学镀膜区
负责人：张丽媛

生长金刚石薄膜

1、主要用于生长金刚石薄膜，有效沉积面积≥2英寸；
2、生长温度：600~1200 ℃。