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中文名:热型原子层沉积
英文名:
所属机组:PVD区
仪器型号:
房间:PVD区
负责人:袁威

主要沉积AlN、Mo、AlScN薄膜。

1、多工艺腔室包含AlN薄膜、AlN薄膜、Mo薄膜溅射腔室以及薄膜修整腔室,工艺腔室真空优于5×10⁻⁷ Torr;

2、晶圆尺寸以4英寸为主,AlScN薄膜均匀性:0.2%、AlN薄膜均匀性:0.1%、Mo薄膜均匀性:0.7%。

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