4月14日，集成电路实验中心开放日系列活动第十四场——设备现场精细化培训之紫外曝光机设备专场顺利开展。本次培训聚焦集成电路制造关键装备紫外曝光机，精准对接学科教学与科研实践需求，为参训学生搭建起理论学习与实操认知深度融合的技术平台，持续推动开放日系列活动提质增效、走深走实。       本次培训重点讲解的紫外曝光机，是集成电路芯片制造及微纳器件制备中图形转移工序...