7月29日-30日，集成电路实验中心开放日系列活动再添新场，ICPCVD、PECVD等离子体化学气相沉积设备精细化培训顺利开展。本次培训聚焦薄膜沉积类核心工艺设备，帮助参训学生厘清设备差异、掌握工艺逻辑、规范操作流程，进一步夯实微纳薄膜制备与器件工艺实训基础。  化学气相沉积（CVD）工艺是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生化学反应，生成固态物质并沉积在硅片表面，从而形成高性能固体薄膜。PECVD与ICP...

7月23日，广西大学物理科学与工程技术学院“悟理铸魂·重器传声”暑期社会实践团来到中国科学技术大学，在我院相关教师陪同下，先后参观集成电路实验中心和校史馆，通过实地研学深入了解集成电路学院平台建设情况以及中国科大的办学历史与精神传统。       在集成电路实验中心，工程师围绕中心的建设背景、功能分区、设备配置及运行管理情况进行详细介绍，并结合芯片制造流程，系统讲解了半导体器件工艺、微纳...

为深化产学研用深度融合，精准对接集成电路产业技术需求，加速区域科技成果转化与产业化落地，7月16日下午，“新新向融・开放共享”2026年高新区新型研发机构平台开放日（集成电路专场）活动在中国科学技术大学高新校区举办。本次活动由合肥市高新区科学技术局（数据资源局）、合肥高新区投资促进局（半导体中心）、中国科学技术大学集成电路学院、中国科学技术大学先进技术研究院、科大硅谷服务平台（安徽）有限公司联合主办，20...

为切实强化实验室安全管理，提升师生安全素养与应急处置能力，保障集成电路科研教学工作安全、规范、高效开展，2026年5月26日，中国科学技术大学集成电路实验中心顺利组织首批实验室安全培训。实验中心工艺工程师周旭、张丽媛，设备工程师袁威参加会议。集成电路作为对环境洁净度、操作规范性、安全防护要求高的科研领域，实验室安全是平台稳定运行、科研工作顺利推进的根本前提。本次培训作为中心规范化运行的重要举措，旨在让全...

       2026年5月13日，浙江大学集成电路学院党委书记王国雄一行到我院开展调研座谈，我院执行院长龙世兵、党总支书记朱云浩等相关负责人出席座谈，双方围绕党团建设、人才培养、师资队伍、平台建设、学院发展等核心议题深入对接、共话发展。       座谈开始前，在朱云浩陪同下，浙江大学集成电路学院一行前往我院集成电路实验中心进行实地参观。参观过程中，工程师详细介绍了实验中心的...

       4月29日，集成电路学院微纳加工平台发展研讨会在中国科大高新校区图教中心C101多功能厅召开。会议围绕微纳加工平台建设运营、科教人才培育、产学研用协同、成果落地转化等主题，邀请国内科研院所、知名高校、龙头企业及行业协会权威专家代表齐聚，共话平台建设新规划、共商学科产业融合新路径、共谋集成电路产业自立自强新发展。学院执行院长龙世兵、副院长岳夫永等出席会议，会议由岳夫永主持。 ...

       4月14日，集成电路实验中心开放日系列活动第十四场——设备现场精细化培训之紫外曝光机设备专场顺利开展。本次培训聚焦集成电路制造关键装备紫外曝光机，精准对接学科教学与科研实践需求，为参训学生搭建起理论学习与实操认知深度融合的技术平台，持续推动开放日系列活动提质增效、走深走实。       本次培训重点讲解的紫外曝光机，是集成电路芯片制造及微纳器件制备中图形转移工序...

      3月19日，集成电路实验中心开放日系列活动第八场——设备现场精细化培训之原子层沉积设备专场顺利开展。本次培训聚焦热型ALD、PEALD两大核心设备，为参训学生带来全流程、专业化的实操与理论教学，进一步夯实集成电路先进工艺实操人才培养基础。      原子层沉积技术是集成电路先进制程、微纳器件制备的关键核心工艺，凭借自限制反应特性，可实现原子级别的薄膜厚度精准控制、完美三维保形覆盖...

      3月17日下午，集成电路实验中心开放日系列活动五“设备现场精细化培训”——光学显微镜专场顺利开展。本次培训聚焦光学显微镜的实操应用、维护技巧及在集成电路领域的实战价值。      光学显微镜作为集成电路研发与检测中的基础核心设备，在芯片表面缺陷观察、结构尺寸测量、材料表征等方面发挥着不可替代的作用。本次培训采用“理论讲解+现场实操+答疑解惑”的立体化模式，确保参训学生“听得...