各功能区主要设备

欢迎访问中国科大集成电路实验中心！

首页
中心概况

中心介绍

组织机构

专家组成员

规章制度
支撑服务

课程教学

工艺开发

代工服务
科研队伍

教授/研究员

副教授/副研究员

讲师

特任副研究员
仪器设备

各功能区主要设备

测试间设备

厂务配套设备
业务指南

校内用户

校外用户
资源下载

教学课件

常用表格

操作教程
联系我们

各功能区主要设备
测试间设备
厂务配套设备

首页仪器设备各功能区主要设备

设备名称：激光直写曝光机
设备名称：后道-自定义有机工艺台2
设备名称：后道-自定义有机工艺台
设备名称：前道-槽式有机工艺台
设备名称：后道-自定义HF刻蚀工艺台
设备名称：后道-自定义酸刻蚀工艺台
设备名称：后道-自定义碱刻蚀工艺台
设备名称：前道-槽式酸刻蚀工艺台
设备名称：前道-槽式晶圆清洗

每页 9 记录总共 47 记录
第一页 <<上一页下一页>> 尾页
页码 3/6 跳转到

地址：安徽省合肥市蜀山区复兴路100号中国科学技术大学（高新校区）1号学科楼C区

Email：ic_lab@ustc.edu.cn

电话：86-0551-63600134

微信公众号

Copyright © 2026 中国科大集成电路实验中心 All rights reserved.皖ICP备05015399号

网站地图法律声明隐私政策